Giải pháp tạo khí oxy và nitơ chuyên nghiệp.
Máy tạo khí nitơ tinh khiết cao 99,999% 30Nm3/h cho quy trình sản xuất wafer trong quá trình khắc silicon làm khí bảo vệ
PRODUCT DESCRIPTION
Máy tạo nitơ tinh khiết cao của Zhongsu Hengda là giải pháp chuyên nghiệp, được thiết kế riêng cho chế tạo wafer bán dẫn. Tích hợp công nghệ đầu ra nitơ siêu tinh khiết và kiểm soát lưu lượng chính xác, máy hoạt động như khí bảo vệ trong quá trình in thạch bản và khắc wafer silicon - chặn không khí để tránh oxy hóa. Nguồn cung cấp nitơ tinh khiết cao liên tục của máy hoạt động như khí mang, vận chuyển khí phản ứng và ngăn tạp chất làm giảm hiệu suất chip. Được thiết kế mạnh mẽ và chính xác, máy hỗ trợ hoạt động liên tục trên nhiều quy trình wafer khác nhau, đảm bảo chất lượng ổn định trong sản xuất bán dẫn đồng thời mang lại kết quả đáng tin cậy.
SHOW DETAILS
Thông số sản phẩm
Độ tinh khiết | 95%-99.9995% |
Năng lực N2 | 1-2000Nm3/giờ |
Áp suất O2 xả | 0-5,5 Bar (Bình thường) |
Điểm sương O2 | －70℃ (Bình thường) |
Hoạt động | Tự động hoàn toàn |
PRODUCT INTRODUCTION
ADVANTAGES AND FEATURES
COMMON MODELS
Người mẫu | Độ tinh khiết | Dung tích | Người mẫu | Độ tinh khiết | Dung tích | Người mẫu | Độ tinh khiết | Dung tích |
HDFD95-1 | 95% | 1 | HDFD99-1 | 99% | 1 | HDFD99.5-1 | 99.5% | 1 |
HDFD95-5 | 5 | HDFD99-5 | 5 | HDFD99.5-5 | 5 | |||
HDFD95-10 | 10 | HDFD99-10 | 10 | HDFD99.5-10 | 10 | |||
HDFD95-20 | 20 | HDFD99-20 | 20 | HDFD99.5-20 | 20 | |||
HDFD95-30 | 30 | HDFD99-30 | 30 | HDFD99.5-30 | 30 | |||
HDFD95-40 | 40 | HDFD99-40 | 40 | HDFD99.5-40 | 40 | |||
HDFD95-50 | 50 | HDFD99-50 | 50 | HDFD99.5-50 | 50 | |||
HDFD95-100 | 100 | HDFD99-100 | 100 | HDFD99.5-100 | 100 | |||
HDFD95-120 | 120 | HDFD99-120 | 120 | HDFD99.5-120 | 120 | |||
HDFD95-150 | 150 | HDFD99-150 | 150 | HDFD99.5-150 | 150 | |||
HDFD95-200 | 200 | HDFD99-200 | 200 | HDFD99.5-200 | 200 | |||
HDFD95-500 | 500 | HDFD99-500 | 500 | HDFD99.5-500 | 500 | |||
HDFD95-800 | 800 | HDFD99-800 | 800 | HDFD99.5-800 | 800 | |||
HDFD95-1000 | 1000 | HDFD99-1000 | 1000 | HDFD99.5-1000 | 1000 | |||
HDFD95-2000 | 2000 | HDFD99-2000 | 2000 | HDFD99.5-2000 | 2000 | |||
HDFD99.9-1 | 99.9% | 1 | HDFD99 99-1 | 99.9% | 1 | HDFD99.999-1 | 99.999% | 1 |
HDFD99.9-5 | 5 | HDFD99.99-5 | 5 | HDFD99.999-5 | 5 | |||
HDFD99.9-10 | 10 | HDFD99.99-10 | 10 | HDFD99.999-10 | 10 | |||
HDFD99.9-20 | 20 | HDFD99.99-20 | 20 | HDFD99.999-20 | 20 | |||
HDFD99.9-30 | 30 | HDFD99.99-30 | 30 | HDFD99.999-30 | 30 | |||
HDFD99.9-40 | 40 | HDFD99.99-40 | 40 | HDFD99.999-40 | 40 | |||
HDFD99.9-50 | 50 | HDFD99.99-50 | 50 | HDFD99.999-50 | 50 | |||
HDFD99.9-100 | 100 | HDFD99.99-1.00 | 100 | HDFD99.999-100 | 100 | |||
HDFD99.9-120 | 120 | HDFD99.99-120 | 120 | HDFD99.999-120 | 120 | |||
HDFD99.9-150 | 150 | HDFD99.99-150 | 150 | HDFD99.999-150 | 150 | |||
HDFD99.9-200 | 200 | HDFD99.99-200 | 200 | HDFD99.999-200 | 200 | |||
HDFD99.9-500 | 500 | HDFD99.99-500 | 500 | HDFD99.999-500 | 500 | |||
HDFD99.9-800 | 800 | HDFD99.99-800 | 800 | HDFD99.999-800 | 800 | |||
HDFD99.9-1000 | 1000 | HDFD99.99-1000 | 1000 | HDFD99.999-1000 | 1000 | |||
HDFD99.9-2000 | 2000 | HDFD99.99-2000 | 2000 | HDFD99.999-2000 | 2000 |
USER EVALUATE
FAQ
Thị trường mục tiêu của thương hiệu chúng tôi đã liên tục được phát triển qua nhiều năm. Để biết thêm thông tin, vui lòng liên hệ với đội ngũ của chúng tôi, chúng tôi rất sẵn lòng hỗ trợ.
1) Lưu lượng O2/N2/H2: ____Nm3/h
2) Độ tinh khiết O2/N2/H2: ____%
3) Áp suất xả O2/N2/H2: ____Bar
4) Điện áp và tần số: _____V/PH/HZ
5) Ứng dụng hoặc sử dụng cho ngành nào.
Chúng tôi sẽ đề xuất cho bạn thiết bị phù hợp nhất theo nhu cầu của bạn.
Công ty đã phát triển thành nhà cung cấp thiết bị tách khí chuyên nghiệp hạng nhất tự hào về sự tích hợp năng lực nghiên cứu khoa học và sản xuất tại Trung Quốc