Profesional en solución de generación de gas oxígeno y nitrógeno.
Generador de nitrógeno PSA de ultra alta pureza (99,999 %) y 5 Nm³/h para la unión de chips semiconductores y el encapsulado de componentes electrónicos de precisión.
El generador de nitrógeno PSA de ultra alta pureza de Zhongsu Hengda proporciona N₂ con una pureza del 99,999 % a 5 Nm³/h, diseñado específicamente para la unión de chips semiconductores y el encapsulado de componentes electrónicos de precisión. Proporciona una protección crítica mediante la creación de una atmósfera inerte ultrapura que previene la oxidación de las almohadillas de unión y los microcircuitos internos, garantizando una integridad de conexión mecánica y eléctrica superior. Con un punto de rocío ultrabajo para eliminar defectos relacionados con la humedad, como huecos internos y deslaminación del encapsulado, el sistema ofrece una salida constante y estable optimizada para estaciones de unión de alta precisión y entornos de sala limpia, manteniendo un control de oxígeno a nivel de ppm para una mayor calidad de unión de cables. Construido con componentes de alto rendimiento y un control PLC inteligente para una integración automatizada perfecta, el sistema cumple totalmente con las normas ISO 9001 y CE, y ha demostrado en la fabricación de circuitos integrados que mejora el rendimiento en el primer intento y garantiza la fiabilidad a largo plazo de los componentes electrónicos de misión crítica.
PRODUCT DESCRIPTION
El generador de nitrógeno PSA de ultra alta pureza de Zhongsu Hengda proporciona nitrógeno con una pureza del 99,999 % a 5 Nm³/h, diseñado para escenarios críticos en la unión de chips semiconductores y el empaquetado de componentes electrónicos de precisión, lo que permite una interconexión de alta precisión y una protección inerte estable para productos microelectrónicos sensibles. En la etapa de protección de unión y empaquetado, la precisa salida de nitrógeno de 5 Nm³/h crea una atmósfera inerte estable y libre de oxígeno alrededor del área de unión y encapsulado de cables, lo que frena la oxidación de las almohadillas de unión y los circuitos internos, a la vez que inhibe defectos relacionados con la humedad, como huecos y delaminación. Esto garantiza una conectividad eléctrica superior y una resistencia mecánica de la unión, al tiempo que mejora significativamente el rendimiento en el primer intento y la fiabilidad a largo plazo del producto en microelectrónica de misión crítica.
SHOW DETAILS
Parámetros del producto
Pureza | 95%-99.9995% |
Capacidad de N2 | 1-2000 Nm³/h |
Presión de descarga de O2 | 0-5,5 bares (normal) |
Punto de rocío de O2 | -70℃ (Normal) |
Operación | Totalmente automático |
PRODUCT INTRODUCTION
ADVANTAGES AND FEATURES
COMMON MODELS
Modelo | Pureza | Capacidad | Modelo | Pureza | Capacidad | Modelo | Pureza | Capacidad |
HDFD95-1 | 95% | 1 | HDFD99-1 | 99% | 1 | HDFD99.5-1 | 99.5% | 1 |
HDFD95-5 | 5 | HDFD99-5 | 5 | HDFD99.5-5 | 5 | |||
HDFD95-10 | 10 | HDFD99-10 | 10 | HDFD99.5-10 | 10 | |||
HDFD95-20 | 20 | HDFD99-20 | 20 | HDFD99.5-20 | 20 | |||
HDFD95-30 | 30 | HDFD99-30 | 30 | HDFD99.5-30 | 30 | |||
HDFD95-40 | 40 | HDFD99-40 | 40 | HDFD99.5-40 | 40 | |||
HDFD95-50 | 50 | HDFD99-50 | 50 | HDFD99.5-50 | 50 | |||
HDFD95-100 | 100 | HDFD99-100 | 100 | HDFD99.5-100 | 100 | |||
HDFD95-120 | 120 | HDFD99-120 | 120 | HDFD99.5-120 | 120 | |||
HDFD95-150 | 150 | HDFD99-150 | 150 | HDFD99.5-150 | 150 | |||
HDFD95-200 | 200 | HDFD99-200 | 200 | HDFD99.5-200 | 200 | |||
HDFD95-500 | 500 | HDFD99-500 | 500 | HDFD99.5-500 | 500 | |||
HDFD95-800 | 800 | HDFD99-800 | 800 | HDFD99.5-800 | 800 | |||
HDFD95-1000 | 1000 | HDFD99-1000 | 1000 | HDFD99.5-1000 | 1000 | |||
HDFD95-2000 | 2000 | HDFD99-2000 | 2000 | HDFD99.5-2000 | 2000 | |||
HDFD99.9-1 | 99.9% | 1 | HDFD99 99-1 | 99.9% | 1 | HDFD99.999-1 | 99.999% | 1 |
HDFD99.9-5 | 5 | HDFD99.99-5 | 5 | HDFD99.999-5 | 5 | |||
HDFD99.9-10 | 10 | HDFD99.99-10 | 10 | HDFD99.999-10 | 10 | |||
HDFD99.9-20 | 20 | HDFD99.99-20 | 20 | HDFD99.999-20 | 20 | |||
HDFD99.9-30 | 30 | HDFD99.99-30 | 30 | HDFD99.999-30 | 30 | |||
HDFD99.9-40 | 40 | HDFD99.99-40 | 40 | HDFD99.999-40 | 40 | |||
HDFD99.9-50 | 50 | HDFD99.99-50 | 50 | HDFD99.999-50 | 50 | |||
HDFD99.9-100 | 100 | HDFD99.99-1.00 | 100 | HDFD99.999-100 | 100 | |||
HDFD99.9-120 | 120 | HDFD99.99-120 | 120 | HDFD99.999-120 | 120 | |||
HDFD99.9-150 | 150 | HDFD99.99-150 | 150 | HDFD99.999-150 | 150 | |||
HDFD99.9-200 | 200 | HDFD99.99-200 | 200 | HDFD99.999-200 | 200 | |||
HDFD99.9-500 | 500 | HDFD99.99-500 | 500 | HDFD99.999-500 | 500 | |||
HDFD99.9-800 | 800 | HDFD99.99-800 | 800 | HDFD99.999-800 | 800 | |||
HDFD99.9-1000 | 1000 | HDFD99.99-1000 | 1000 | HDFD99.999-1000 | 1000 | |||
HDFD99.9-2000 | 2000 | HDFD99.99-2000 | 2000 | HDFD99.999-2000 | 2000 |
USER EVALUATE
FAQ
El mercado objetivo de nuestra marca se ha ido definiendo continuamente a lo largo de los años. Para más información, póngase en contacto con nuestro equipo; estaremos encantados de ayudarle.
1) Caudal de O2/N2/H2: ____Nm3/h
2) Pureza de O2/N2/H2: ____%
3) Presión de descarga de O2/N2/H2: ____ Bar
4) Voltaje y frecuencia: _____V/PH/HZ
5) Aplicación o uso para qué industria.
Le recomendaremos el equipo más adecuado según sus necesidades.
La empresa se ha convertido en un proveedor profesional de primera clase de equipos de separación de aire que cuenta con la integración de capacidades de producción e investigación científica en China.